化學(xué)鍍鎳、銅、磷三元合金工藝的研究，為提高化學(xué)鍍鎳.磷合金鍍層的性能及獲得多種性能的合金鍍層以拓寬其應(yīng)用范圍在化學(xué)鍍鎳、磷合金液中加入硫酸銅制得鎳、銅、磷三元合金,研究了鍍液中硫酸鎳、次磷酸鈉、檸檬酸鈉、硫酸銅、穩(wěn)定劑、光亮劑的含量以及pH值和溫度等因素對(duì)合金鍍層的外觀(guān)、沉積速度及銅含量的影響，通過(guò)5%氯化鈉溶液和10%硫酸溶液浸泡試驗(yàn)比較了所得鎳、銅、磷合金鍍層與鎳、磷合金鍍層以及前人制得的鎳、磷合金鍍層的耐蝕性，同時(shí)比較了上述鍍層的其它性能結(jié)果表明，所得鎳、銅、磷合金鍍層的耐蝕性、外觀(guān)、結(jié)合力、孔隙率、沉積速度、硬度和耐磨性等性能優(yōu)于鎳、磷合金及前人制得的鎳、銅、磷臺(tái)金鍍層。

電鍍金的原理：當(dāng)電源加在鉑金鈦網(wǎng)(陽(yáng)極)和硅片(陰極)之間時(shí)，溶液會(huì)產(chǎn)生電流，并形成電場(chǎng)。優(yōu)質(zhì)鍍金陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)釋放出電子，同時(shí)陰極得到電子發(fā)生還原反應(yīng)。陰極附近的絡(luò)合態(tài)金離子與電子結(jié)合，以金原子的形式沉積在硅片表面。鍍液中的絡(luò)合態(tài)金離子在外加電場(chǎng)的作用，向陰極定向移動(dòng)并補(bǔ)充陰極附近的濃度消耗。電鍍的主要目的是在硅片上沉積一層致密、均勻、無(wú)孔洞、無(wú)縫隙、無(wú)其它缺陷的金。電鍍金的性能特點(diǎn)：1、高導(dǎo)電性；2、那腐蝕、耐磨性；3、抗變色性；4、良好的焊接性能；5、優(yōu)良的延展性；6、優(yōu)良反射性能紅外線(xiàn)；7、低接觸電阻。

鎮(zhèn)江鍍鎳過(guò)程沉積金屬的原理與置換法和電解法等不同，它是利用鎳鹽溶液在強(qiáng)還原劑的作用下，使鎳離子還原成金屬鎳，鍍鎳還原金屬離子所需的電子由還原劑提供。鎮(zhèn)江鍍鎳價(jià)格工藝流程種類(lèi)，按鍍液的pH值可分為酸性和堿性?xún)纱箢?lèi)，按鍍層成分可分為Ni-P和M-B等情況。酸性Ni-P鎮(zhèn)江鍍鎳工藝按鍍層中磷的含量又可分高磷、中磷和低磷3類(lèi)。對(duì)于這些不同類(lèi)型的鎮(zhèn)江鍍鎳工藝，具體發(fā)生的反應(yīng)有所差異，但反應(yīng)原理則基本相同，都是鍍液中的還原劑將鎳離子在呈催化活性的物體表面還原成金屬鎳鍍層。

鍍?nèi)辖穑寒?dāng)銅、錫、鋅三種金屬按一定比例同時(shí)電鍍?cè)诠ぜ砻鏁r(shí)，將得到一種類(lèi)似不銹鋼外觀(guān)，具有柔和光潔金屬光澤的合金鍍層。這是現(xiàn)在通訊連接器行業(yè)的主流三元合金鍍層。該鍍層不含有毒有害金屬，表現(xiàn)為逆磁性，具有突出的電信號(hào)傳輸性能。同時(shí)通過(guò)調(diào)整鍍液組分，控制鍍層金屬比例使得的三元合金鍍層具有優(yōu)異的耐腐性(450-500Hv) 耐腐蝕性（>96H NSS)和耐高溫性( 250℃ 1H)。金石電鍍專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)鍍?nèi)辖稹?/p>

所謂的三元合金電鍍是否就是陽(yáng)極處理，不是的，屬于陰極電沉積?！板?nèi)辖鸺夹g(shù)”已廣泛應(yīng)用于同軸連接器、濾波器、波導(dǎo)和微波器件及其他射頻器件?！板?nèi)辖鸺夹g(shù)”結(jié)合了銀優(yōu)良的電導(dǎo)性及“三元合金”的耐腐蝕性，而三元合金的薄鍍層在10GHz的范圍內(nèi)，不影響銀優(yōu)良電導(dǎo)性的表現(xiàn)。